レーザアブレーション法による熱電変換材料シリコンボライド成膜の研究

研究業績

• 野村、鈴木、中田「熱電材料シリコンボライドのレーザーアブレーション成膜」電 気学会 放電研究会資料、ED-00-19 (2000.1) p.37 - 42

• 鈴木、宇留野、中田「レーザーアブレーションを用いた微粒子堆積によるシリコン ボライドの単相成膜」レーザー学会誌、Vol.28, No.6, (2000) p.359 - 364

• K.Suzuki, J.Nakata : "Selective Preparation of Single-Phase Boron-rich Silicon Borides Films by Pulse Laser Ablation Method" Proceeding of CLEO Europe CWF60 (2000.9) p.217

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